出版社内容情報
本書は好評の「図解入門よくわかる最新半導体プロセスの基本と仕組み」の姉妹編の第2版です。東京エレクトロン、アドバンテスト、ディスコ、ミライアル、ニコンなど、日本には世界に冠たる半導体関連メーカーがたくさんあります。本書では、半導体の製造工程に沿って、使われている製品技術や製造技術を、図解でやさしく説明しています。
内容説明
製造装置の全体を俯瞰する。あなたの知らない日本の実力がわかる。世界に冠たる日本の半導体製造装置メーカー、その技術力の神髄が手に取るようにわかる!
目次
半導体製造装置を取り巻く現状
半導体製造装置をファブから理解する
洗浄・乾燥装置
イオン注入装置
熱処理装置
リングラフィー装置
エッチング装置
成膜装置
平坦化(CMP)装置
検査・測定・解析装置
後工程装置
著者等紹介
佐藤淳一[サトウジュンイチ]
京都大学大学院工学研究科修士課程修了。1978年、東京電気化学工業(株)(現TDK)入社。1982年、ソニー(株)入社。一貫して、半導体や薄膜デバイス・プロセスの研究開発に従事。この間、半導体先端テクノロジーズ(セリート)創立時に出向、長崎大学工学部非常勤講師などを経験(本データはこの書籍が刊行された当時に掲載されていたものです)
※書籍に掲載されている著者及び編者、訳者、監修者、イラストレーターなどの紹介情報です。