神奈川工科大学附属図書館

Principles of plasma discharges and materials processing

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg. -- Wiley, 1994. <BB00111801>
登録タグ:
登録されているタグはありません
書誌URL:

所蔵一覧 1件~1件(全1件)

No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階書架 427.6||L 120200316 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階書架
請求記号 427.6||L
資料ID 120200316
状態
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 Principles of plasma discharges and materials processing / Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg
出版・頒布事項 New York : Wiley , c1994
形態事項 xxvi, 572 p. : ill. ; 25 cm
巻号情報
ISBN 0471005770
注記 Includes bibliographical references (p. 559-564) and index
注記 "A Wiley-Interscience publication."
学情ID BA2405445X
本文言語コード 日本語
著者標目リンク *Lieberman, Michael A. <NC:DA00127985>
著者標目リンク Lichtenberg, Allan J <NC:DA00127974>
分類標目 LCC:QC718.5.D9
分類標目 DC20:530.4/4
件名標目等 Plasma dynamics
件名標目等 Thin films -- Surfaces
件名標目等 Plasma etching
件名標目等 Plasma chemistry