神奈川工科大学附属図書館

次世代ULSIプロセス技術

廣瀬全孝[ほか]編集委員. -- リアライズ社, 2000. <BB00098588>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 B1大型書架 549.7||J 111207973 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 B1大型書架
請求記号 549.7||J
資料ID 111207973
状態
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 次世代ULSIプロセス技術 / 廣瀬全孝[ほか]編集委員
ジセダイ ULSI プロセス ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : リアライズ社 , 2000.2
形態事項 23,825,17p : ill. ; 31cm
巻号情報
ISBN 4898080200
その他の標題 その他のタイトル:Advanced ULSI process technology
注記 執筆: 角南英夫[ほか]
学情ID BA45542134
本文言語コード 日本語