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最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて

中山弘, 小川倉一監修. -- シーエムシー出版, 2011. <BB01053064>
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最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて

中山弘, 小川倉一監修. -- シーエムシー出版, 2011. <BB01053064>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階書架 549.8||S 111715751 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階書架
請求記号 549.8||S
資料ID 111715751
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて / 中山弘, 小川倉一監修
サイシン ガスバリア ハクマク ギジュツ : ハイ グレード ガスバリア フィルム ノ ジツヨウカ ニ ムケテ
出版・頒布事項 東京 : シーエムシー出版 , 2011.4
形態事項 vii, 232p ; 27cm
巻号情報
ISBN 9784781303185
その他の標題 標題紙タイトル:Advanced thin‐film processes for gas‐barrier films : toward the industrialization of high‐grade gas‐barrier films for electronics
その他の標題 その他のタイトル:エレクトロニクスシリーズ
エレクトロニクス シリーズ
その他の標題 その他のタイトル:High technology information
注記 ブックジャケットに「エレクトロニクスシリーズ」「High technology information」との表示あり
注記 文献: あり
学情ID BB05928563
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 中山, 弘||ナカヤマ, ヒロシ <AU00021498>
著者標目リンク 小川, 倉一
オガワ, ソウイチ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 電子工学 NDC9:549.8
件名標目等 薄膜||ハクマク
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