神奈川工科大学附属図書館

最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術

逢坂哲彌,二瓶公志編集. -- 広信社, 1987. <BB00082115>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 B1書架 549.8||S 111041273 禁帯出 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 B1書架
請求記号 549.8||S
資料ID 111041273
状態 禁帯出
返却予定日
予約 0件

書誌詳細

標題および責任表示 最新機能成膜プロセス技術 : エレクトロニクスにおける機能膜作製技術 / 逢坂哲彌,二瓶公志編集
サイシン キノウ セイマク プロセス ギジュツ : エレクトロニクス ニ オケル キノウマク サクセイ ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 広信社 , 1987.6
形態事項 862p ; 27 cm
注記 各章末:文献
学情ID BN01531664
本文言語コード ja
著者標目リンク 逢坂, 哲彌
オオサカ, テツヤ <NC:DA01754277>
著者標目リンク 二瓶, 公志(1937-)
ニヘイ, コウジ <NC:DA01754390>
分類標目 化学工学.化学機器 NDC8:571.4