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ここまできたｲｵﾝ注入技術 : 超LSIﾌﾟﾛｾｽのﾘｰﾄﾞ役

布施玄秀, 平尾孝編著. -- 工業調査会, 1991. -- (K books 79 ; 79). <BB00095392>
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ここまできたｲｵﾝ注入技術 : 超LSIﾌﾟﾛｾｽのﾘｰﾄﾞ役

布施玄秀, 平尾孝編著. -- 工業調査会, 1991. -- (K books 79 ; 79). <BB00095392>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階書架 549.8||F 111174975 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階書架
請求記号 549.8||F
資料ID 111174975
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 ここまできたｲｵﾝ注入技術 : 超LSIﾌﾟﾛｾｽのﾘｰﾄﾞ役 / 布施玄秀, 平尾孝編著
ｺｺﾏﾃﾞ ｷﾀ ｲｵﾝ ﾁｭｳﾆｭｳ ｷﾞｼﾞｭﾂ : ﾁｮｳ LSI ﾌﾟﾛｾｽ ﾉ ﾘｰﾄﾞﾔｸ
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1991.6
形態事項 182p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4769360800
書誌構造リンク K books 79||K books <BN00077281> 79//a
学情ID BN06481370
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 布施, 玄秀(1951-)
ﾌｾ, ｹﾞﾝｼｭｳ <NC:DA05998717> 編著
著者標目リンク 平尾, 孝
ﾋﾗｵ, ﾀｶｼ <NC:DA0549966X> 編著
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
件名標目等 半導体||ﾊﾝﾄﾞｳﾀｲ
件名標目等 半導体||ﾊﾝﾄﾞｳﾀｲ
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