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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB00102732>
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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著. -- 工業調査会, 1994. <BB00102732>
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所蔵一覧 1件～2件（全2件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階書架 549.8||H 111022638 0件
0002 図書館 2階書架 549.8||H 111243374 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階書架
請求記号 549.8||H
資料ID 111022638
状態
返却予定日
予約 0件
No. 0002
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階書架
請求記号 549.8||H
資料ID 111243374
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現 / 高橋清 [ほか] 編著
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン・ムソンショウカ オ ジツゲン
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1994.3
形態事項 266p : 挿図 ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769311222
その他の標題 異なりアクセスタイトル:光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温無損傷化を実現
ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン ムソンショウカ オ ジツゲン
注記 その他の編著者: 松波弘之, 村田好正, 英貢
注記 執筆者: 西澤潤一ほか
注記 章末: 参考文献
学情ID BN10527941
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 高橋, 清(1934-)||タカハシ, キヨシ <AU00014457>
著者標目リンク 松波, 弘之(1939-)||マツナミ, ヒロユキ <AU00028159>
著者標目リンク 村田, 好正(1935-)||ムラタ, ヨシタダ <AU00034676>
著者標目リンク 英, 貢||ハナブサ, ミツグ <AU00055749>
著者標目リンク 西澤, 潤一(1926-2018)||ニシザワ, ジュンイチ <AU00055403>
分類標目 電子工学 NDC8:549
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND354
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 光化学||コウカガク
件名標目等 電子部品||デンシブヒン
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