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ﾌｫﾄﾏｽｸ技術のはなし : 超LSI､液晶､ﾌﾟﾘﾝﾄ板を支える

田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 工業調査会, 1996. <BB00092005>
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ﾌｫﾄﾏｽｸ技術のはなし : 超LSI､液晶､ﾌﾟﾘﾝﾄ板を支える

田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著. -- 工業調査会, 1996. <BB00092005>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 返却予定日 予約
0001 図書館 2階書架 549.7||F 111140943 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 図書館
配置場所 2階書架
請求記号 549.7||F
資料ID 111140943
状態
返却予定日
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 ﾌｫﾄﾏｽｸ技術のはなし : 超LSI､液晶､ﾌﾟﾘﾝﾄ板を支える / 田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著
ﾌｫﾄﾏｽｸ ｷﾞｼﾞｭﾂ ﾉ ﾊﾅｼ : ﾁｮｳLSI ｴｷｼｮｳ ﾌﾟﾘﾝﾄﾊﾞﾝ ｵ ｻｻｴﾙ
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1996.8
形態事項 262p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4769311494
注記 参考文献: 各章末
学情ID BN15133386
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 田辺, 功(1937-)
ﾀﾅﾍﾞ, ｲｻｵ
著者標目リンク 竹花, 洋一
ﾀｹﾊﾅ, ﾖｳｲﾁ
著者標目リンク 法元, 盛久
ﾎｳｶﾞ, ﾓﾘﾋｻ
分類標目 電子工学 NDC8:549.7
分類標目 NDC7:549.8
件名標目等 ﾘｿｸﾞﾗﾌｨｰ||ﾘｿｸﾞﾗﾌｨｰ
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